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等离子清洗机
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40KHz与13.56MHz等离子清洗机有什么区别

等离子清洗机原理是在真空状态下使电极之间形成高频交变电场,区域内气体在交变电场的激荡下,形成等离子体,活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用,使被轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子,和气态物质,经过抽真空排出,而达到清洗目的。

真空等离子清洗机的工作频率与能产生物理作用还是化学作用有很大关系,常用的等离子清洗系统激发频率有三种: 40kHz,13.56MHz和20MHz;不同等离子体激发频率产生的自偏压不一样。40kHz的自偏压为1000V左右,13.56MHz自偏压为250V左右,20MHz的自偏压则更低,这三种激发频率的机制不同,40kHz发生的反应为物理反应,13.56MHz发生的反应既有物理反应又有化学反应,20MHz有物理反应但更主要的反应为化学反应,需要对材料进行活化、改性的要用13.56MHz或者20MHz的等离子体清洗。

40KHz等离子体在能量转化方面优于13.56MHz,前者将更多的能量转化为粒子动能及化学活性,后者在等离子处理过程中产生的热量比较多,也就是其中很多能量转化为了热能,所以就降低了粒子的动能及化学活性。处理的效果就会不理想,或者是需要加特殊气体和增加处理时间等等,我们的设备很多时候用空气处理就能达到要求的效果,这是很多其他同类设备无法达到的。13.56MHz等离子体电场中的频率振荡较高,相对于40KHz射频等离子而言电子在转变方向之前的运动距离更短。这意味着在每个运动周期中能够到达器件表面的粒子数量更少,因此表面受到粒子撞击减少,从而降低了清洗的效率和效果,直接影响产品质量和产量。40KHz射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术,它应用于半导体、微电子、医疗和通用工业的宽广领域内。在通用工业、半导体、微电子、医疗行业,需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中,除了40KHz射频等离子体的强烈的化学作用外,其携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物(如金属氧化物和其它无机物沉淀)以及交联聚合物以达到清洁、活化目的。

13.56MHz等离子清洗机

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